مقناطیسی میدان کے عمل کے تحت بننے والے مقناطیسی سیال کے ذریعے، اس میں معطل غیر مقناطیسی کھرچنے والے ذرات کو مقناطیسی سیال کے بہاؤ کی قوت اور بہاؤ کے عمل کے تحت پیسنے اور پالش کرنے کے لیے گھومنے والی ورک پیس کے خلاف دبایا جا سکتا ہے، اس طرح اس میں بہتری آتی ہے۔ معیار اور ختم کرنے کی کارکردگی. یہ کسی میٹامورفک پرت کے بغیر Ra Less یا اس کے برابر 0.01μm کے ساتھ مشینی سطح حاصل کر سکتا ہے، اور پیچیدہ سطح کی شکلوں کے ساتھ ورک پیس کو پالش کر سکتا ہے۔ چونکہ مقناطیسی میدان کی مقناطیسی فیلڈ لائنیں اور ان سے بننے والا مقناطیسی سیال مواد کو ہٹانے میں براہ راست حصہ نہیں لیتے ہیں، اس لیے اسے مقناطیسی میدان کی مدد سے پروسیسنگ کہا جاتا ہے۔
مقناطیسی سیال مقناطیسی ذرات، سرفیکٹینٹس اور مائع کیریئرز (جیسے پانی، تیل، وغیرہ) پر مشتمل ہوتا ہے۔ مقناطیسی ذرات کا اوسط ذرہ سائز تقریباً 10urn ہے، جو مستحکم سرفیکٹنٹس کے نامیاتی مالیکیولز سے گھرا ہوا ہے، اور ایک مستحکم مقناطیسی ذرہ کولائیڈ بن جاتا ہے، جو تیل پر مبنی یا پانی پر مبنی مائع کیریئر میں معطل ہوتا ہے۔ مثال کے طور پر، CY3-1 دھاتی مقناطیسی سیال Fe3O4 مقناطیسی مواد (بڑے پیمانے پر حصہ 10 فیصد -30 فیصد ) سے بنا ہوتا ہے جس کا ذرہ قطر 7{9}}nm ہوتا ہے، سرفیکٹنٹ کے ساتھ معدنی تیل میں منتشر ہوتا ہے۔ اولیک ایسڈ (بڑے پیمانے پر حصہ 40 فیصد -60 فیصد ) کیریئر میں، اس کی سنترپتی شامل کرنے کی شدت 0.023T ہے، کثافت 1.2g/mL ہے، اور متحرک viscosity 20×10-3Pa·s ہے۔ چونکہ مقناطیسی ذرات کا مقناطیسی لمحہ بہت بڑا ہوتا ہے، اس لیے وہ کشش ثقل کے ذریعے تیز نہیں ہوں گے، اور ان کے مقناطیسی وکر میں کوئی ہسٹریسس نہیں ہے، اور مقناطیسیت مقناطیسی میدان کی طاقت میں اضافے کے ساتھ بڑھ سکتی ہے، تاکہ مقناطیسی ذرّات کے کنٹرول کا احساس ہو سکے۔ ورک پیس فورس اور پروسیسنگ کی رقم۔
یہ مقناطیسی پیسنے کا عمل 1940 کی دہائی میں ریاستہائے متحدہ میں شروع ہوا تھا، اور اسے سابق سوویت یونین اور بلغاریہ کے محققین نے 1950 کی دہائی کے آخر اور 1960 کی دہائی کے اوائل میں تیار کیا تھا۔ 1970 کی دہائی تک، یہ دکھایا گیا ہے کہ اس ٹیکنالوجی کو زیادہ تر بھاری ورک پیس کی تکمیل میں استعمال کیا جا سکتا ہے۔ 1980 کی دہائی کے آخر سے، جاپان نے اپنے پروسیسنگ اصول اور آلات کا مزید مطالعہ کیا ہے، اور فنشنگ کے شعبے میں اس کا اطلاق تیار کیا گیا ہے۔ 1990 کی دہائی میں، جاپان، برطانیہ اور امریکہ کے محققین نے اپنی ٹیکنالوجی اور آلات کو بڑھانا جاری رکھا۔ اور کامل، اور مقناطیسی چمکانے کے عمل کی تقلید کے لیے محدود عنصر کے طریقہ کار کو لاگو کریں، مقناطیسی انڈکشن کے تحت مقناطیسی سیال اور کھرچنے والے ذرات کی حرکت کی خصوصیات کا تجزیہ کریں، جو اس عمل کی ترقی اور اطلاق کو بہت زیادہ فروغ دیتا ہے۔